主要功能：

本设备配置1套φ50.8mm圆形阳极层离子源，5套φ50.8mm磁控溅射源，可直流、脉冲、中频、射频通用，结合共聚焦溅射沉积，适用于复合型功能薄膜沉积开发，可以沉积金属、半导体、介质和化合物等功能薄膜。系统配备中120mm的旋转加热样品台(转速6转/分钟)，可手动伸缩调节，最大调节长度20mm，靶基间距约100mm-120mm可调，样品台背面装有水冷罩、石英灯加热器、反射罩、探温器和屏蔽环，最高温度500℃。

应用领域：

·适用于高等院校和科研单位从事薄膜材料研究工作。