PVD1516大型复合离子镀膜机

主要功能:

采用多弧离子镀膜、磁控溅射镀膜复合技术，可以对非金属材料、金属材料表面镀制各种装饰涂层，也可以对刀具、模具镀制各种功能涂层，特别适用于多品种、多用途、多功能、批量化生产。

应用领域:

·可实现对各型产品的批量处理。

·半导体、3C电子、汽车、航空航天、核工业、能源、船舶等众多工业和民用领域.

·真空室:采用太钢SU304不锈钢，单层真空室、水冷带复合冷却设计，内腔尺寸φ1500xH1600mm，立式单前切门结构，前门装两个可视直径φ100mm的观察窗，真空室内壁全抛光、外壁全喷砂:

·磁控靶:8只圆柱状磁控靶采用顶部插入式，4只安装于真空室壁对称位置、4只安装于转架内圈中心位置，靶φ70x1100mm定向溅射、直接冷却;

·圆弧靶:9只圆弧靶、φ100x40mm，安装位置按照4、5交错排列于抽气口两侧;

·极限真空(24小时):≤5.0x10^-4Pa，新炉(室温、空载)从大气至6.0x10^-3Pa≤18分钟，压升率≤0.5Pa/小时:

·真空室温度:最高加热温度250^。C，15分钟内可以加热到150^。C;

·工件转架:采用底盘公转带自转运动，15个工位，变频调速，转速连续可调，公转速度0-5转/分。