PSD-1600-SW复合等离子体金属化装备

主要功能:

采用离子刻蚀、磁过滤等离子体和磁控溅射相结合的等离子体技术,在ABS、PPAPET玻璃、聚四氟乙烯等绝缘基材表面沉积高导电性金属薄膜。金属薄膜与基体具有高结合力和优异的导电特性,用纯物理环保技术实现非金属材料表面金属化,可以替代传统化学镀方法,获得更优异的金属化性能。


应用领域:

·可实现对大型产品的批量处理。

·半导体、3C电子、汽车、航空航天、核工业、能源、船舶等众多工业和民用领域。


技术参数

·真空腔室:φ1600x1800mm

·极限真空:≤2x10-4Pa

·沉积速率:≥1um/h

·结合力:0.5N/mm


地址:成都市双流区西航港大道中四段219号

邮编:610207

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