主要功能:
采用等离子体离子刻蚀和离子镀膜技术相结合,在低温条件下,对复合材料表面制备功能涂层。功能涂层具备良好的介电特性,以及优异的基体结合性能。设备配置阳极层离子源、磁过滤等离子体源和伸缩磁控溅射源等专利技术,可对长度超过3000mm的产品进行功能涂层制备,设备采用全自动控制技术,可实现工艺和产品生产一键式操作。
应用领域:
·可实现对大型产品的批量处理。
·半导体、3C电子、汽车、航空航天、核工业、能源、船舶等众多工业和民用领域。
·真空室:φ2000x3870mm
·极限真空:≤3x10-4Pa
·薄膜沉积速率:≥2um/h
·薄膜厚度公差:≤±15%
·薄膜沉积温度:≤120°C
·工件尺寸:≤φ1600mmx3200mm