MIP-2000A真空离子镀膜设备

主要功能:

采用等离子体离子刻蚀和离子镀膜技术相结合,在低温条件下,对复合材料表面制备功能涂层。功能涂层具备良好的介电特性,以及优异的基体结合性能。设备配置阳极层离子源、磁过滤等离子体源和伸缩磁控溅射源等专利技术,可对长度超过3000mm的产品进行功能涂层制备,设备采用全自动控制技术,可实现工艺和产品生产一键式操作。


应用领域:

·可实现对大型产品的批量处理。

·半导体、3C电子、汽车、航空航天、核工业、能源、船舶等众多工业和民用领域。


技术参数

·真空室:φ2000x3870mm

·极限真空:≤3x10-4Pa

·薄膜沉积速率:≥2um/h

·薄膜厚度公差:≤±15%

·薄膜沉积温度:≤120°C

·工件尺寸:≤φ1600mmx3200mm


地址:成都市双流区西航港大道中四段219号

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传真:028-82820926

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