主要功能：

采用离子源技术和磁控溅射技术相结合，对产品进行表面清洗刻蚀处理，随后沉积减磨涂层。膜层具备高强结合力和优异摩擦磨损性能，可替代传统化学电镀方法。设备配置平面孪生磁控溅射源、阳极层霍尔离子源以及专用水冷工件转架。

应用领域：

·可实现对大型产品的批量处理。

·半导体、3C电子、汽车、航空航天、核工业、能源、船舶等众多工业和民用领域。