主要功能:

采用射频、直流和中频磁控溅射技术，结合共聚焦溅射沉积，实现对四英寸样品的多层薄膜沉积、复合共溅射沉积等功能。系统配备加热样品台，样品台可升降，可旋转，可加温，最高加热温度800^。C。系统配备预真空室、隔离真空阀门和样品传送机构，样品可由预真空室送入/取出处理室，可维持和保障处理室的超高真空环境，特别适宜于高洁净处理工艺研发。

应用领域:

·适用于高等院校和科研单位从事薄膜材料研究工作。