主要功能:
采用离子源技术和磁控溅射技术相结合,对船用轴瓦进行表面清洗刻蚀处理,随后沉积减磨涂层。膜层具备高强结合力和优异摩擦磨损性能,可替代传统化学电镀方法。设备配置平面孪生磁控溅射源、阳极层霍尔离子源以及专用水冷工件转架,可实现对大型轴瓦的批量处理。
技术参数:
真空室:Ø1300×1500mm
极限真空:£2´10-4Pa
沉积速率:≥5μm/h
产品规格:≤Ø300mm×50
产品数量:≥160件/炉
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