磁控溅射镀膜系统

主要功能:

采用离子源技术和磁控溅射技术相结合,对船用轴瓦进行表面清洗刻蚀处理,随后沉积减磨涂层。膜层具备高强结合力和优异摩擦磨损性能,可替代传统化学电镀方法。设备配置平面孪生磁控溅射源、阳极层霍尔离子源以及专用水冷工件转架,可实现对大型轴瓦的批量处理。

技术参数

技术参数:

真空室:Ø1300×1500mm

极限真空:£2´10-4Pa

沉积速率:≥5μm/h

产品规格:≤Ø300mm×50 

产品数量:≥160件/炉

地址:成都市双流区西航港大道中四段219号

邮编:610207

电话:028-82820926 028-82820927 028-82820929

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