主要功能:
利用高能离子束注入掺杂与基体相互作用,提升金属样品表面耐磨损、抗腐蚀性能,改变介质材料表层介电特性,改善聚合物材料表面性能,改变生物材料基因特性等。设备配置一套高能气体离子源和一套高能金属离子源,可实现不同气体离子和金属离子的单元、多元或混合注入。配置加热和水冷样品台,可对注入样品进行加热或冷却处理。
高能气体离子源(左上侧)、高能金属离子源(右上侧)

移动式样品平台架(真空室内部)
应用领域:
实验研究和小量样品实验。
真空室:Φ600x800mm
极限真空:≤2x10-4Pa
离子能量:≤100keV
离子剂量:≥1x1017/cm2
离子种类:N、C、H、Ti、Ag…