真空镀膜通过真空蒸发、溅射、喷射、电离等方法将金属、非金属或化合物等物质沉积或涂覆在材料表面，改变材料表面物理、化学、力学、光学和介电性能等，目前广泛应用于半导体、3C电子、汽车、航空航天、核工业、能源、船舶等众多工业和民用领域。其表面改性层厚度从几个纳米到数百个微米，涵盖功能涂层和装饰涂层，应用领域极为广泛。相对于传统电镀、喷涂和常规气相沉积等方法，真空镀膜在涂层的装饰和功能性方面具有其他方法不可比拟的优势。同时，真空镀膜技术是新型节能环保技术，随着不同类型的真空镀膜技术的发展和成熟，以及市场需求的发展，正逐步成为部分电镀、喷涂、化学气相沉积产品的替代技术。 离子镀膜集多弧离子镀技术和非平衡孪生磁控溅射技术于一体的复合离子镀膜技术，结合线性霍尔离子源的在线清洗、活化和增强沉积，适用于镀制各种高档装饰膜和功能膜。