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  公司以自主研发的离子源技术、等离子体源技术及高电压技术、自动控制技术、真空技术,先后开发了多种类型的材料表面处理设备及相关工艺,已广泛应用于机械加工、半导体、石油钻井、航空航天及生物医学领域,以国内领先的技术与产品性能获得用户的极高评。

大型多功能离子镀膜机

  真空离子镀膜设备为大型电弧离子/磁控溅射复合镀膜机,电弧离子镀膜和磁控溅射镀膜两种方法可独立工作。


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  真空离子镀膜设备为大型电弧离子/磁控溅射复合镀膜机,电弧离子镀膜和磁控溅射镀膜两种方法可独立工作。



 


真空离子镀膜设备为大型电弧离子/磁控溅射复合镀膜机,电弧离子镀膜和磁控溅射镀膜两种方法可独立工作。

一、产品尺寸:

1.真空室内径2000mm,长约4000mm,真空室厚度18mm,外壁有水冷,侧门上焊接水冷管

2.配备两台30000L/S扩散泵作为主抽,并且配备罗茨泵和两台机械泵作为前级,相应都配有气动挡板阀。

3.配备11套圆形阳极层离子源,22套直通式电弧磁过滤等离子体源分布两排,11套伸缩式磁控溅射沉积源。

 

二、其他配置系统:

1.工件支撑和旋转系统

结构设计便于工件的吊装,工件转架可以整体平移进出真空室。

2.真空加热烘烤除气系统

对真空内壁和工件进行加热烘烤,除去附着和残余的气体,达到更为清洁的真空状态。

3.工件温度测量与控制系统

通过温度监测,控制沉积薄膜时等离子体源和磁控溅射靶的输出功率,以及偏压电源的功率和连续处理时间。

4.真空测量和控制系统

测量真空室两端的真空度,调节流量计送气量和控制泵抽速以调节真空室内压力。

5.循环冷却系统

真空泵组单独供水冷却,并配有水流监控器。

三:应用范围

磁过滤式阴极弧沉积金属涂层(已应用型号)