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  公司以自主研发的离子源技术、等离子体源技术及高电压技术、自动控制技术、真空技术,先后开发了多种类型的材料表面处理设备及相关工艺,已广泛应用于机械加工、半导体、石油钻井、航空航天及生物医学领域,以国内领先的技术与产品性能获得用户的极高评。

复合离子镀膜设备

  镀膜设备是一种在将电弧、磁控溅射和离子源结合的镀膜技术。具有膜层密度高、附着力强、沉积速度快以及能使基本材料(金属)表面合金化等特点。


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  镀膜设备是一种在将电弧、磁控溅射和离子源结合的镀膜技术。具有膜层密度高、附着力强、沉积速度快以及能使基本材料(金属)表面合金化等特点。


镀膜设备是一种在将电弧、磁控溅射和离子源结合的镀膜技术。具有膜层密度高、附着力强、沉积速度快以及能使基本材料(金属)表面合金化等特点。可制备各种金属化合物尤其是氮化物膜层,如TiNZrNTiAINZrC等超硬、耐腐蚀膜层。

 

 

    

离子源参数及设备配置可根据用户要求祝贺专门设

 

应用范围:

于工业生产中的各种刀、模具等耐磨损材料的表面强化及卫生洁具、锁具等金属制品的表面处理。

 

主要配置:

小多弧源

平面/柱状孪生磁控溅射

条形阳极层离子源